非可視光檢測儀器

除了肉眼所視範圍之外，光學設備的進步使檢測範圍可以擴大至非肉眼可見區、或是畫面淡化的痕跡，以深入肉眼無法判別的狀況避免疏失而影響修復處置，其特質見（見圖）

光譜圖圖片來源http://aeea.nnmns.edu.tw/aeea/courses/picture/1865-EM.jpg

一般可分為紅外線檢測、紫外螢光檢測、X射線螢光能元素分析(XRF)檢測、實體顯微鏡檢示使用說明如下：

1.紅外線檢測：

紅外線可以穿透文物的顏料層的底層是否有其他肉眼無法判斷的反應，例如是否有色層重疊，或是繪有底稿圖案；另外，紅外線對炭元素特別敏感，可以檢測出微弱的墨線，有助於觀察繪畫原始風格。

老師教導紅外光檢測以辨識顏料層下方狀況

紅外光檢視作品《海濤》，亦可辨識顏料的穿透性特質

2.紫外螢光檢測：

紫外光雖然是文物遭受光害的主因，但若有效使用可以檢視出同色而不同性質的材質，例如文物是否有後加顏料層覆蓋、後世的補筆補彩等。之外亦可以大約測知黴菌的反應，但黴菌因為種類繁多，不見得所有黴菌在紫外螢光下都會有螢光反應，曾經處理過的黴菌或許有黴斑遺存，但也不一定會有螢光反應。為避免檢測時紫外線對文物的傷害，文物檢測用紫外線應使用最接近可見光波區、對文物傷害最低的的長波紫外線照測，使用時應切實管理光源使用時間，應將所有週邊攝影環境、取景、焦距、曝光時間等均事先測試完畢之後，才在拍攝前瞬間開啟光源，快門關閉後立即關閉光源。拍攝人員亦應戴配防紫外線護眼鏡，以避免眼睛受刺激。

紫外光下檢視作品可判別後加補彩

紫外光下檢視作品《花鳥》

3.X射線螢光能元素分析(XRF)檢測：

XRF檢測儀器是一種可避免儀器直接接觸畫作、不需取樣造成作品危害的非接觸性檢測分析儀器，因此屬於一種對文物非破壞性的檢測。

國立文化資產保存研究中心採用的X-射線原理，當原子接受外界能量後，原子成為激發態。當能量不大時，原子中最外層的價電子會躍升到較高的能階去；但當能量極大時，原子內層穩定的電子也會因吸收能量而移向外層或放射出去。當原子內層失去電子後，外層電子就會移向內層，填補空軌，當原子外層電子移向內層電子空軌道時，放出的能量是移動兩個能階的能量差，這個能量差所形成射線，就是X-射線。